中國半導體之殤-高端光刻機

    你們知道目前全世界最難制造、生產(chǎn)流程最復雜、技術含量最高的高科技設備是什么？答案是，光刻機。什么是光刻機？光刻機是制造芯片必須的設備，現(xiàn)在智能設備產(chǎn)品非常普遍，每個智能設備中都有芯片，芯片智能設備的核心零部件。例如：生產(chǎn)一部手機，芯片必不可少，而制造芯片，就必須要用光刻機，所以它的重要性不言而喻。

    現(xiàn)在高端光刻機基本被ASML壟斷了，連NIKON市場份額都很少，具我們所知光刻機的內(nèi)部極其復雜，可以說是所有知識集一體的產(chǎn)物之一。即使以科技自詡的美國、以色列、日本、德國等設備巨頭在嘗試后也不得不退出這一領域。不過這也不能說荷蘭人是最聰明的，因為現(xiàn)在的光刻機研發(fā)是集全球優(yōu)勢資源和半導體幾十年的技術積累才有這個結果的，荷蘭比其它國家的優(yōu)勢就在于他們有過這樣的積累，而其他國家為獲得優(yōu)先使用權也只能投錢支持了。就拿中芯國際購買一臺最先進的光刻機花了1.2億美元的例子來看（還被延期交貨了），光刻機的價值和制造難度可見一斑。國內(nèi)做的比較好的是上海微電子裝備和中科院的某研究所不過也停留在90nm研發(fā)產(chǎn)品階段（目前ASML7nm的已量產(chǎn)），雖然國家近年來大量資金和政策投入半導體行業(yè)，但畢竟技術積累不是錢能解決的。缺人才才是限制研制的關鍵，目前國內(nèi)優(yōu)秀人才都奔向計算機與金融了，基礎研究缺乏人才輸入，而光刻機恰恰吃人才，可想難度多大。但在5G和物聯(lián)網(wǎng)雙重布局的風口下，中國在芯片制造工藝方面大約比三星、臺積電和英特爾落后三代左右，目前中芯國際仍在努力改進自己的28nm工藝，14nm工藝還尚在研發(fā)當中，至于集成度更強、功耗更低的7nm技術，落后的差距可見一斑，沒有高端光刻機，基本上在未來的芯片產(chǎn)業(yè)中我們沒有任何話語權，有錢花不出去，連購買權都在別人手中。

  前面也闡述了光刻機是全世界最難制造、生產(chǎn)流程最復雜、成本最高的高科技設備，是人類知識集大成的產(chǎn)物之一，我們當前也急之不來，我們目前需要做的是培養(yǎng)和儲備相關技術型人才，腳踏實地，從低端做起，積累經(jīng)驗。相信以我們中華民族的智慧，在不久的將來在高端光刻機領域會有我們一席之地。。